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德國GY2000水相剝離剪切法制備石墨烯的設(shè)備

簡要描述:

德國GY2000水相剝離剪切法制備石墨烯的設(shè)備設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。

更新時間:2024-09-02

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德國GY2000水相剝離剪切法制備石墨烯的設(shè)備

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SINA研磨分散機設(shè)計*,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。

水相剪切剝離法制備石墨烯的新技術(shù)是北京化工大學毋偉教授在與中元龍港的合作中,他和其團隊成功研發(fā)的新技術(shù),獲得該石墨烯產(chǎn)品。


該新技術(shù)有以下幾個特點:

一、綠色環(huán)保,以水為溶劑,在常壓下進行,不加表面活性劑等有機成分,對環(huán)境無害;二、成本較低;三、由于產(chǎn)品主要是剝離法制得,缺陷少,層數(shù)低,多在七層以內(nèi),片的大小在3-5微米之間;未加入表面活性劑對產(chǎn)品無污染,純度高;產(chǎn)品的導(dǎo)電率接近50000S/m。四、所用重要設(shè)備都來自市場定型設(shè)備,所使用的添加劑也可從市場購買,原料來源廣,可膨或高純鱗片石墨及人工石墨均可。



水相剪切剝離法制備石墨烯新技術(shù)ZUI關(guān)鍵的還是所使用的設(shè)備,上海新浪機械推出了一款集膠體磨與分散機為一體的設(shè)備——研磨分散機(改進型膠體磨)它綜合了均質(zhì)機、球磨機、三輥機、剪切機、攪拌機等機械的多種性能,具有*的超微粉碎、分散乳化、均質(zhì)、混合等功效。特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。


GY2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運轉(zhuǎn)平穩(wěn),運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封,并通冷媒對密封部分進行冷卻,把泄露概率降到低,保證機器連續(xù)24小時不停機運行。


GY2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

第1級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出終產(chǎn)品是很重要。


研磨分散機的特點:

1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨


2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。


從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)


線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)  
              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
SINA 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的


GY2000系列研磨分散機設(shè)備選型表

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

GY2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

GY2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

GY2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

GY2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

GY2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

GY2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150


流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

德國GY2000水相剝離剪切法制備石墨烯的設(shè)備

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